【摘要】：近年来,随着市场对产品分辨率、对比度、视角、响应速度等诸方面特性要求的提高,传统的LCD已经逐渐不能满足高端市场的要求本世纪以来,OLED (Organic Light-Emitting
Display)崭露头角,并由于它各方面的逐渐应用而使其为人们所熟知,被众多企业所看好。OLED目前有两种主流工艺,顶发射与底发射,顶发射OLED由于其高亮度、高开口率而有着巨大嘚优势在阳极材料上,具有4.5eV-5.3eV的高功函数、性质稳定且透光的ITO透明导电膜,便被广泛应用于阳极。同时,高反射率的Ag及其合金成为反射层的首选材料加上Ag底层的pixel层ITO,总共需要三层。为了降低制造成本,减少成膜工艺的复杂性,并减少由于多次曝光而造成的位置偏离风险,需要用尽量少的過程中完成对这几层的蚀刻工艺在对镀膜是什么工艺进行调整,微调其最上层及最下层ITO的膜厚及膜质,并对蚀刻条件进行调整后,可以做到可鉯接受的Taper角度及线宽损失。由此,可以在节省产能及提高工艺可靠性的前提下,做到可以接收的量产水准
【学位授予单位】：复旦大学
【学位授予年份】：2011
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